Многолучевой литограф из России может ускорить выпуск микросхем в 3000 раз
Новый литограф из России способен ускорить производство микросхем в три тысячи раз. По оценкам разработчиков, он сможет экспонировать кремниевую пластину за пять-семь минут — это в три тысячи раз быстрее, чем у традиционных аналогов. Такой высокой скорости удастся достичь благодаря мультикатоду, который формирует множество электронных лучей одновременно, тогда как классические литографы используют один луч.
Ключевой узел уже изготовлен и протестирован. По словам главного разработчика Евгения Гиваргизова, созданы массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра. В отличие от зарубежных систем, где лучи расщепляются сложными схемами, в новой конструкции независимые источники размещаются на одной подложке, что удешевляет оборудование и упрощает его использование.
Первый опытный образец может быть готов через три года. Технология рассчитана на выпуск чипов от традиционных 350 нанометров до перспективных процессов в несколько нанометров. Однако предельное разрешение, по словам авторов, будет зависеть в первую очередь от характеристик фоторезистов.
Эксперты оценили проект неоднозначно. Сергей Сазонов из НТИ назвал концепцию многообещающей, но обратил внимание на сложность управления большим числом лучей. Сергей Варнавский считает, что проект находится на ранней стадии и может устареть к моменту готовности, но на российском рынке с низкой конкуренцией разработка все же может быть востребована и снизить зависимость от импортного оборудования.
